年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99,996%)

三氟化氮（Dušik Trifluorid，化学式NF3，是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体，具有⼴泛的应⽤领域。
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体，在半导体芯⽚、平板显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽓体和反应腔清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放出⼤量热来实现其应⽤.

Dušikov trifluorid, kemijska formula NF3, je močan oksidant. Kot pomemben industrijski posebni plin ima širok spekter uporabe.
V mikroelektronski industriji je dušikov trifluorid odličen plin za plazemsko jedkanje; V polprevodniških čipih, ploščatih zaslonih, optičnih vlaknih, fotovoltaičnih celicah in drugih proizvodnih področjih se dušikov trifluorid uporablja predvsem kot plin za plazemsko jedkanje in čistilno sredstvo za reakcijsko votlino.
Lahko se uporablja tudi v visokoenergijskih kemičnih laserjih, da se doseže njegova uporaba z reakcijo z vodikom, ki v trenutku oddaja veliko količino toplote. Dušikov trifluorid se uporablja tudi kot visokoenergetsko gorivo ter kot oksidant in pogonsko gorivo pri izstrelitvah raket.